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  • 高精度光刻曝光機是全球領先的掩模對準曝光機,Mask aligner,是光掩膜板和硅片對準的紫外曝光機。它支持高精度掩模運動,具有光刻機精密光學對準系統,高精度光刻曝光機是光刻應用中非接觸高精度光刻曝光機的領軍性產品.
  • 微波等離子體源 FPNEO-MiniMIP

    品牌:輔光 價格:0.00
    微波等離子體源是具有著高度靈活性微波等離子體發生器,可有效應用在各種精密復雜的科研實驗中.微波等離子體源創造性地使用分子氣體混合物補充的純氬氣,氦氣,確保了將化學工藝與具體應用的要求相匹配。
  • 等離子體表面清洗器是等離子體表面處理前對樣品表面清洗,活化和凈化的專用表面活化儀器和表面清洗儀器,非常適合對溫度敏感材料的表面處理,如塑料.等離子體表面清洗器適合難以接觸的樣品表面清潔處理,如狹窄的裂縫,毛細血管或狹小孔洞。
  • 等離子體主動熱探頭是耐高溫的等離子探頭,用于高溫等離子體過程中流入到目標表面的能量,也可作為離子流探頭使用.由于等離子體主動熱探頭的靈敏度非常高,特別適合用于工業生產過程或研究中的有效質量控制.有一個特殊的版本,該版本有一個更多可選的可調參數,可以用來解決等離子體工藝的研發。
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